EJW-400IFN-D单面...
ENGIS带修面装置的研磨机组是一组高精密度的研磨/抛光机组。专为研磨硬碟磁头及其他先进物料元件(如蓝宝石及碳化硅等)而设计及生产,本机配备一组PCD刀具修面装置,可于短时间内将研磨盘修面至1um精...
EJ-380IN桌面式单面研...
EJ380IN是一台简单但精密的桌面式单面研磨/抛光机组。配合Engis自行开发的HYPREZ系列研磨盘、钻石研磨液、润滑剂及其他金太客耗材,可满足不同物料的高精度研磨/抛光工艺要求。选件:自动喷雾...
EJW-610E-3AL单面...
ENGIS设计及生产的大型座地式单面研磨/抛光机组,适合于工业用密封无件、陶瓷器件、不同的金属元件、半导体元件、蓝宝石及碳化硅类等先进物料的研磨/抛光工作。并可提供不同力度的气动压力装置配合不同研磨...
EJ-200IN桌面式单面研...
桌上型镜面抛光机并不只是针对测试加工或是少量研磨抛光加工的机型,而是能够达成精密镜面抛光加工之小型化多功能机型。喷雾控制器、搅拌器、抛光液点滴器及防尘盖为自行选配,并可联线控制,轻易地成为自动化精密...
EJW-460I/2CMP抛...
特性:CMP抛光机(EJW-460I/2CMP)是特别用在CMP工程中以提高化学抛光技术指标的专业设备,是高压对应型8英寸晶片两轴同时研磨的系统。规格:研磨定盘直径Φ460mm对应晶片Φ8英寸晶片2...
HYPREZ抛光布
在工件的抛光工序上,抛光布的使用是非常重要。针对不同产品的最终表面要求,应选择适当的抛光布配合不同配方的化学抛光液以进行此最后工序。Engis提供的抛光布主要分为三大类:毛织布、短纤维布及压缩布。均...
HYPREZ化学抛光液
要达到最精细的工件表面光洁度,在最后的抛光工序上便要选用质的化学抛光液,Engis的HYPREZ化学抛光液选用纳米级的硅微粉(SiO2)作物理抛光(MechanicalPolishing)原料,配合...
HYPREZ研磨盘
HYPREZ研磨盘是为了针对Engis自行开发的一系列研磨耗材(钻石研磨液、研磨膏、抛光液)而配方生产的,能充份发挥HYPREZ研磨耗材的能效。HYPREZ研磨盘有不同配方物料可供选择,适合不同物料...
HYPREZ修整轮
HYPREZ修整轮有以下几类:◎镀钻石修整轮◎不锈钢陶瓷修整轮◎陶瓷修整轮镀钻石修整轮此产品专为HY系列研磨盘而设计,其作用是定期修整研磨盘表面,以减低研磨盘因长期工作而造成的不平表面,备有各种镀沙...
OS油性润滑剂(液)
本产品是为了HYPREZ研磨膏及研磨液而特别配制的低粘度油性润滑剂,适用于喜百事五星、喜百事油性研磨膏和研磨液,在适当浓度的情况下,本产品也能和喜百事水性研磨膏一起使用。
W水性润滑剂(液)
此产品的粘度比油性OS型润滑剂略高,能配合喜百事水性研磨膏及水性研磨液一起使用。
S4889水溶性润滑液
这是特别为与S-4889研磨液并用开发研制的润滑油,具有油膜非常薄且切削性优良等特点。